簡(jiǎn)述流體拋光機(jī)設(shè)備的拋光盤(pán)運(yùn)行模式控制：

由于四變頻電機(jī)能在加工過(guò)程快速改變拋光盤(pán)和工件的相對(duì)轉(zhuǎn)速，同時(shí)也可通過(guò)數(shù)字閥調(diào)節(jié)氣缸位置改變加工過(guò)程中的拋光壓力，所以可以突破傳統(tǒng)的拋光工藝中拋光壓力、拋光速差的限制，設(shè)計(jì)流體拋光機(jī)拋光盤(pán)運(yùn)行模式，它分為啟動(dòng)、預(yù)拋、粗拋、精拋、光拋、制動(dòng)及變速階段。運(yùn)行模式中分階段精確變化的壓力對(duì)易碎的工件的直接作用力是很溫和的，它作用一個(gè)“輕觸”的載荷在較厚的工件上，使工件厚度開(kāi)始變化?？删幊痰能浧饎?dòng)速度控制可以防止易碎的工件搖晃，減少邊緣的破碎。軟停止的排序使上拋光盤(pán)脫離來(lái)減少或消除一直黏在上拋光盤(pán)上工件的殘余量。
    

根據(jù)拋光盤(pán)運(yùn)行曲線的不同階段，建立了一套適合不同情況的控制規(guī)則，編寫(xiě)成運(yùn)行軟件控制拋光盤(pán)的運(yùn)行。拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速采用軟件預(yù)計(jì)算，在制動(dòng)前流體拋光機(jī)拋光盤(pán)的速度降速為0. 42rad/s,最終位置采用12位絕對(duì)值光柵精確檢測(cè)，臨近終點(diǎn)時(shí)，讓拋光盤(pán)處于慣性運(yùn)行，進(jìn)一步降低拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速，到達(dá)終點(diǎn)位置時(shí)迅速制動(dòng)電機(jī)。此時(shí)拋光盤(pán)的轉(zhuǎn)速已很低，不會(huì)對(duì)工件造成大的沖擊。